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信頼性評価
■半導体パッケージ゙、製品の耐環境試験
■寿命推定試験
■機械的環境試験
■BGAはんだボール再生
■BGAパッケージの耐IRリフロー試験
■2次実装評価
調査解析
■製品の故障個所及び故障原因の解析
成分分析
■半導体パッケージの開封
■電気的特性測定
■微細配線の切断・加工
新着情報
2008.10.01 FE-SEM日立ハイテク SU8000)新規導入しました。
最新のTop検出器搭載によりSE(二次電子)・BSE(反射電子)[BSE-H(組成情報)・BSE-L(組成+凹凸情報)]を低加速・高倍率で観察目的に合せて最適コントラスでの観察を実現!(詳細はお問い合わせを)
2008.07.01 断面研磨装置(BUEHLERエコメットツイン)増設しました。
2008.02.05 調査解析の成分分析事例を更新しました。 
2007.11.09 JEDEC規格(J-STD-020D)対応リフロー温度プロファイルが対応可能になりました。 
2007.07.09 ディンプルグラインダー(GATAN Model656)導入しました。チップ部を数μm単位で研磨
2007.01.10 リフロー装置を増設いたしました。(加熱8/冷却3ゾーン)
2006.11.22 実体顕微鏡(ライカZ16APO)、デジタルカメラシステム(ニコンDMX-1200F)増設しました。
2006.10.30 断面研磨試料切断機ラインナップ強化(RCA-005 3台⇒4台)しました。

2006.06.29 マイクロフォーカスX線装置(SHIMADZU SMX-160LT)新規導入しました。

0.4μm焦点の高解像・高コントラストで、通常のX線観察では見えない超微細な接合状態や断線・短絡の観察。 高密度実装基板やBGA・CSPのボイドやハンダ形状などの究極の観察を実現できます。(詳細はお問い合わせを)

2006.04.15 カーブトレーサーTektronix370B 設備追加しました。
2006.02.16 大型恒温恒湿槽を増設いたしました。(大型の実装基板、etc試料に対応可能)
2005.12.13 ISO14001を2004年版に移行しました
2005.11.29 成分分析事例更新しました
2005.09.01 ホームページをリニューアルしました。
 
■取り扱い製品
・半導体デバイス
・電子部品
・SMT基板
・2次実装品 等
最終更新日 2008/11/14
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